聚焦離子束激光離子化納米質譜成像系統-質譜系統-儀器設備-生物在線
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聚焦離子束激光離子化納米質譜成像系統

聚焦離子束激光離子化納米質譜成像系統

商家詢價

產品名稱: 聚焦離子束激光離子化納米質譜成像系統

英文名稱:

產品編號: FELMER

產品價格: 0

產品產地: 日本

品牌商標: TOYAMA

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聚焦離子束激光離子化納米質譜成像系統?(FILMER)

? ? ? ? ? ? ? ? ? ---納米尺寸表面質譜成像

FILMER基于二次離子質譜技術,集成了聚焦離子束,掃描電子顯微鏡和激光器。

功能

??二次離子質譜

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原理

用聚焦離子束濺射試樣表面,收集和分析排出的二次離子;

數據采集

這些二次離子的質量/電荷比及質譜可確定元素,同位素,或分子組成;

?激光二次中性質譜(Laser-SNMS

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原理

用聚焦離子束濺射試樣表面,使用激光共振電離大多數濺射中性原子;

數據采集

與二次離子質譜相同

?聚焦離子束精細加工

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可以通過連續Ga聚焦離子束連續濺射樣品表面除去想要除去的部分;

?二次離子質譜及掃描電子顯微鏡觀測

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可實現二次離子質譜及掃描電子顯微鏡兩種觀測方式;

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主要特點:

1.?高空間分辨率

□?橫向分辨率?< 40nm

□?質譜分辨率?m/Δm >7000@m/z=56

2.?可原位加工和分析,避免暴露于空氣中

□ SEM小損傷觀測,可定位值FIB相同位置;

□?可分析顆粒表面及橫截面;

3.?可實現激光二次中性質譜

□?與傳統SIMS相比可顯著改善信號靈敏度;

□?高靈敏度的有機化合物分析;

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性能

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原始束流

30kV Ga+

橫向分辨率

40 nm

測量范圍

500μm ~?500nm

質譜分析

飛行時間TOF

質譜分辨率m/z = 56)

m/Δm = 7000

激光器

飛秒激光器

激光波長

1030nm, 515nm, 355 nm, 257nm

激光能量

10W / 1mJ (1030nm)

掃描電子顯微鏡

30kV??~ 5?kV

掃描電子顯微鏡橫向分辨率

30nm

樣品尺寸

X1cm×Y1cm×Z3mm

機械操作

5

可選

電荷中和裝置,?轉移容器,

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