圓筒式等離子處理系統 （蝕刻 ，去膠，等離子光刻膠、材料改性、混合清洗、（PCB）去污、清除浮渣，有機物灰化，混合電路清洗，印刷電路、表面處理）
產品名稱： 圓筒式等離子處理系統 （蝕刻 ，去膠，等離子光刻膠、材料改性、混合清洗、（PCB）去污、清除浮渣，有機物灰化，混合電路清洗，印刷電路、表面處理）
英文名稱：
產品編號： PS系列圓筒式等離子處理系統 （蝕刻 ，去膠，等離子光刻膠、
產品價格： 0
產品產地： 原裝進口圓筒式等離子處理系統 （蝕刻 ，
品牌商標： GIK圓筒式等離子處理系統 （蝕刻 ，去膠，等離子光刻膠、材料改性、混合清洗、（
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產品介紹：PS系列圓筒式等離子處理系統、
一款獨特模塊設計的圓筒式等離子處理系統
PS系列圓筒式等離子處理系統重新定義了圓筒式等離子處理工藝。該等離子處理系統基于模塊化設計制造，采用一款通用的真空處理艙及機箱，多款電極模塊方便整體系統的組裝及配置。PS系列圓筒式等離子處理系統帶給用戶方便操作，提供多種等離子處理工藝、方便維護及性價比高的系統比業內氣體等離子處理系統更具競爭力。
互換式電極模塊
多款電極配置：圓筒籠式（cage）電極、托盤式（tray）電極、反應離子刻蝕(RIE)式電極、下游式 （Downstream）電極
業內認可工藝程序/菜單
業內認可高質部件
終點檢測（End-Point Detection選配）
自動射頻匹配器
下游壓力控制（選配）
電腦控制
觸摸屏操作
多款真空泵浦系統選裝
圓筒式等離子處理系統描述
等離子工藝處理的研發需要多功能且可靠的設備。為了滿足等離子研究日新月異的要求，用戶選購的系統設備滿足最大范圍的等離子工藝參數需要，工藝驗證需要極其高的可重復性，必須方便改造用于新的等離子工藝需要。PS是一款滿足等離子去膠，清除浮渣，各向同性和各向同性蝕刻 ，有機物灰化，混合電路清洗，印刷電路板（PCB）去污，故障分析，表面處理及其塑料件改性，聚合物沉積，等等其他等離子應用的研究，工藝開發及其小批量生產的等離子系統工具，用于最大八英寸基片的精密等離子刻蝕及沉積。該等離子系統可以容納處理多塊晶圓片。
PS系列圓筒式等離子處理系統提供圓筒式等離子系統的獨特模塊化設計。PS系列圓筒式等離子處理系統可容納處理最大200mm或是更小的基片（單晶圓片反應離子刻蝕（RIE）處理，300mm晶圓片可以處理）。該系統的建造采用高質量認可的部件、模塊化裝配、多功能真空艙體-電極設計、結構緊湊、自動化及業內認可工藝程序使得PS等離子處理系統成為工藝工程師首選干法設備。
系列圓筒式等離子處理系統應用
. PS系列圓筒式等離子處理系統配備的真空機電極配置使得該系統能夠滿足廣泛的等離子工藝處理要求。這些等離子工藝包括簡單的材料表面清洗到復雜的亞納米級反應離子刻蝕（RIE）蝕刻；基與眾多客戶群的緊密協作，我們開發出業內認可的工藝程序，保證系統滿足用戶所需。用于生產制造的系統設備均采用最高質量的部件，保證我們的系統提供最大可能的正常運行時間、 可靠性、重復性及耐用性。
PS系列圓筒式等離子處理系統典型等離子工藝處理包括
等離子清除浮渣（Plasma Descuming）
光刻膠去膠（Photoresist Stripping）
等離子材料表面處理(Surface Treatment)
等離子各向同性和各向同性蝕刻(Anisotropic & Isotropic Etching)
故障分析應用(Failure Analysis Applications)
材料改性(Material Modification)
封裝清洗(Package Cleaning)
鈍化層刻蝕(Passivation Etching)
聚酰亞胺刻蝕(Polyimide Etching)
促進粘合(Adhesion Promotion)
生物醫學應用(Biomedical Applications)
等離子聚合反應(Polymerizaton)
混合清洗(Hybrid Cleaning)
預鍵合清洗(Pre-Bond Cleaning)
PS系列圓筒式等離子處理系統最大的成功來源于其多功能模塊設計。這些特點包括極小占地面積的臺面使用，或是層流安裝和模塊化真空艙室及電極配置，滿足廣泛的等離子工藝處理需要。此外，觸摸屏電腦控制系統提供了簡便操作及多層次程序/菜單控制，系統操作及部件控制。多款真空泵浦系統可選配。
PS系列圓筒式等離子處理系統基本系統
PS系列圓筒式等離子處理系統的通用機箱配置包括所有必要的電磁閥、真空泵浦、射頻（RF）電源、射頻（RF）匹配器、工藝氣體控制及系統邏輯。這些配置提供了一款全自動化等離子處理系統。通用機柜可容納不同真空處理艙室，電極模塊；方便植入機柜之中。幾分鐘之內，系統可以從一款普通的轉筒式等離子處理系統變成一款反應離子刻蝕（RIE）系統、平板電極處理系統、或是帶支架的混合等離子清洗系統。
PS系列圓筒式等離子處理系統真空艙/電極
PS系列圓筒式等離子處理系統的模塊化真空艙及電極組件是該款系統的亮點。真空艙采用硬質陽極氧化鋁建造。幾款不同的電極設計可供選配，妻子包括水冷式（溫度控制）平板電極用于反應離子刻蝕（RIE）及平板式等離子工藝處理，更換托盤式（tray electrodes）電極用于表面清洗或處理，下游電極（downstream electrodes）用于減少離子損傷，圓筒籠式（cage electrodes）電極用途普通轉筒式等離子處理。
PS系列圓筒式等離子處理系統 等離子電源
PS系列圓筒式等離子處理系統采用一款600W@13.56 MHz射頻（RF）電源，配備自動匹配器網絡。
圓筒式等離子工藝處理真空泵浦系統
根據用戶的真空等離子工藝級別需要，系統配備機械泵、機械泵及渦輪分子泵，或是帶魯氏鼓風機的機械泵。也可根據所需真空處理級別配備不同尺寸大小的真空泵浦。
真空泵浦填充惰性泵油，用于氧氣或腐蝕性化學氣體應用。兩套質量流量控制器（MFC）控制氣源管路標配為最多兩路。下游壓力控制為選配。
PS系列圓筒式等離子處理系統 電腦控制
PS系列圓筒式等離子處理系統觸摸屏控制的電腦提供無線程序/菜單存儲。多步驟工藝簡單易存。工藝條件連續實時顯示。該控制系統編程建議且具有工藝保護功能。工藝處理可以條形碼形式 （選配）。
PS系列圓筒式等離子處理系統選配
眾多的工藝 處理選配使得PS系列圓筒式等離子處理系統具有更強大的處理能力。
PS系列圓筒式等離子處理系統尺寸
圓筒式等離子處理系統主機： 89厘米 寬 x 81厘米 深x 53厘米 高真空處理艙(內部) Width 14.75" x Depth 17" x Height 12"
PS系列圓筒式等離子處理系統重量： 70公斤
PS系列圓筒式等離子處理系統安裝條件
圓筒式等離子處理系統主機 220 V 50/60 Hz, 15 Amps
圓筒式等離子處理系統真空泵浦 220 V
H2O 用于電極冷卻
空氣 用于驅動電磁閥操作
氮氣N2 用于真空艙泄壓
工藝氣體 N2. Ar, O2
如果您對GIK圓筒式等離子處理系統感興趣，請聯系我們索取更詳盡資料！極科有限公司(材料科學部)客服：400-6160-445電話：021-6053-4450電郵: sales@gikinco.com gikinco@gmail.com網址: www.gikinco.com