?交替型LB膜分析儀
1. 產品簡介
? ? ?KSV NIMA為瑞典百歐林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要經營方向為單分子層薄膜的構建與表征工具。LB（Langmuir-Blodgett）膜分析儀為KSV NIMA自主研發的一款單分子層膜的制備和表征設備，是LB膜的沉積領域應用最廣泛的一款全球領先設備。
? ? ?LB膜分析儀配備了鍍膜井和鍍膜頭，在所需的堆積密度下，鍍膜頭可以用來將Langmuir膜轉移到固體基材上，鍍膜井可以在Langmuir膜下為固體樣品提供空間。將Langmuir膜轉移到樣品上，密度，厚度及均勻性等性質將會保留，從而實現了制備不同組成的多分子層結構的可能。與其他有機薄膜沉積技術相?，LB沉積方法受功能性分子的分子結構限制影響很小，這意味著LB技術是唯一能夠進行自下向上的一種組裝方法。
? 交替型LB膜分析儀為我公司LB膜分析儀系列中的一款特色產品。它可用于兩種材料的交替層鍍膜，包括兩個槽體，兩個表面壓力傳感器和兩對滑障。該槽有兩種尺寸，標準型和大型。
2. 工作原理
? ?位于氣-液或液-液界面處不可溶的功能性分子、納米顆粒、納米線或微粒所形成的單分子層可定義為Langmuir膜。這些分子能夠在界面處自由移動，具有較強的流動性，易于控制其堆積密度，研究單分子層的行為。將材料沉積在淺池（稱頂槽）中的水亞相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，單分子層可以被壓縮。表面壓力即堆積密度可以通過Langmuir膜分析儀的壓力傳感器進行控制。
? ?在進行典型的等溫壓縮測試時，單分子層先從二維的氣相(G)轉變到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在氣相中，分子間的相互作用力比較弱；當表面積減小，分子間的堆積更為緊密，并??發生相互作用；在固相時，分子的堆積是有序的，導致表面壓迅速增大。當表面壓達到最大值即塌縮點后，單分子層的堆積不再可控。

圖1 單分子層膜狀態受表面壓力增加的影響
LB膜沉積過程是將樣品從單分子層中垂直拉出（圖2a），通過反復沉積技術可制備多層LB膜（圖2b），親水性及疏水性樣品均可在液相或氣相中沉積為單分子層。

圖2 (a). LB沉積過程示意圖；(b). 多層單分子膜的制備
? ? 交替型LB膜分析儀的鍍膜過程如圖3所示。當使用兩個單分子層壓縮沉積池和一個空白沉積池時，可實現交替鍍膜，浸漬過程可在3個沉積池中選擇任意路徑多次循環（圖3a）；在共同的亞相（淺藍色）上方，有兩種不同的單分子層（紫色和深藍色）（圖3b）；上臂將樣品向下通過單分子膜，由下臂接住樣品。沉積循環也可從亞相開始，進行第一層鍍膜（圖3c）；下臂可根據需要旋轉到另一單分子層的沉積池或空白沉積池中，改變沉積池（圖3d）；下臂提起樣品，傳遞給上臂（樣品從任意一側通過兩個單分子層中任意一個），進行第二層鍍膜（圖3e）。

圖3 (a). 交替沉積池構造示意；(b). 樣品在在夾具上；(c). 第一層鍍膜；(d). 改變沉積池；(e). 第二層鍍膜
3. 技術參數
3.1?交替型LB膜分析儀（KN2006）
1.????? 槽體材質：固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
2.????? 框體特性：33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
3.????? 系統設計：模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試 
4.????? 槽體表面積：587 cm2 (*2)
5.????? 槽體內部尺寸：782 x 75 x 5 mm（長 x 寬 x高, *2）
6.????? 滑障速度: 0.1-200 mm/min
7.????? 滑障速度精度: 0.1? mm/min
8.????? 測量范圍：0-150 mN/m
9.????? 天平最大負荷: 1 g
10.? 天平定位調節： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
11.? 傳感精度: 4 μN/m
12.? 表面壓測試元件： 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004國際標準。其他選項：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/TUNEology 波長可調檢測卡盒-->