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1. 產品簡介
?KSV NIMA為瑞典百歐林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要經營方向為單分子層薄膜的構建與表征工具。LB（Langmuir-Blodgett）膜分析儀為KSV NIMA自主研發的一款單分子層膜的制備和表征設備，是LB膜的沉積領域應用最廣泛的一款全球領先設備。
LB膜分析儀配備了鍍膜井和鍍膜頭，在所需的堆積密度下，鍍膜頭可以用來將Langmuir膜轉移到固體基材上，鍍膜井可以在Langmuir膜下為固體樣品提供空間。將Langmuir膜轉移到樣品上，密度，厚度及均勻性等性質將會保留，從而實現了制備不同組成的多分子層結構的可能。與其他有機薄膜沉積技術相比，LB沉積方法受功能性分子的分子結構限制影響很小，這意味著LB技術是唯一能夠進行自下向上的一種組裝方法。
常規的LB膜分析儀包含三種型號的槽體：小型、中型、大型。
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2. 工作原理
位于氣-液或液-液界面處不可溶的功能性分子、納米顆粒、納米線或微粒所形成的單分子層可定義為Langmuir膜。這些分子能夠在界面處自由移動，具有較強的流動性，易于控制其堆積密度，研究單分子層的行為。將材料沉積在淺池（稱頂槽）中的水亞相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，單分子層可以被壓縮。表面壓力即堆積密度可以通過Langmuir膜分析儀的壓力傳感器進行控制。
在進行典型的等溫壓縮測試時，單分子層先從二維的氣相(G)轉變到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在氣相中，分子間的相互作用力比較弱；當表面積減小，分子間的堆積更為緊密，并開始發生相互作用；在固相時，分子的堆積是有序的，導致表面壓迅速增大。當表面壓達到最大值即塌縮點后，單分子層的堆積不再可控。
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圖1 單分子層膜狀態受表面壓力增加的影響
LB膜沉積過程是將樣品從單分子層中垂直拉出（圖2a），通過反復沉積技術可制備多層LB膜（圖2b），親水性及疏水性樣品均可在液相或氣相中沉積為單分子層。
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圖2 (a). LB沉積過程示意圖；(b). 多層單分子膜的制備
3. 技術參數
3.1 小型LB膜分析儀（KN2001）
槽體材質：固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
框體特性：33 mm槽體高度調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
系統設計：模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試 
槽體表面積： 98 cm2 
槽體內部尺寸：195 x 50 x 4 mm（長 x 寬 x高）
滑障速度: 0.1-270 mm/min
滑障速度精度: 0.1? mm/min
測量范圍：0-150 mN/m
天平最大負荷: 1 g，可三維 
天平定位調節： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
傳感精度: 4 μN/m
表面壓測試元件： 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004國際標準。其他選項：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy鉑金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy紙板、白金棒
Langmuir測試槽亞相容積：39 ml
 Langmuir-Blodgett測試槽亞相容積：57 ml
鍍膜井尺寸：20 x30 x 30 mm（長 x 寬 x高）
最大基材尺寸：3 x 26 x26 mm或1英寸 
最大鍍膜沖程： 80 mm
鍍膜速度：0.1 – 108 mm/min
電源： 100...240 VAC
頻率： 50...60 Hz
3.2 中型LB膜分析儀（KN2002）
槽體材質：固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
框體特性：33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
系統設計：模塊化設計，可獨立進行表面壓測量和鍍膜實驗，可原位進行表面紅外、表面電勢、布魯斯特角圖像、界面剪切等測試 
槽體表面積： 273 cm2 
槽體內部尺寸：364 x 75 x 4 mm（長 x 寬 x高）
滑障速度: 0.1-270 mm/min
滑障速度精度: 0.1? mm/min
測量范圍：0-150 mN/m
天平最大負荷: 1 g
天平定位調節： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
傳感精度: 4 μN/m
表面壓測試元件： 標準Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004國際標準。其他選項：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy鉑金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy紙板、白金棒
Langmuir測試槽亞相容積：109 ml
Langmuir-Blodgett測試槽亞相容積：176 ml
鍍膜井尺寸：20 x56 x 60 mm（長 x 寬 x高）
最大基材尺寸：3 x 52 x56 mm或2英寸 
最大鍍膜沖程： 80 mm
鍍膜速度：0.1 – 108 mm/min
電源： 100...240 VAC
頻率： 50...60 Hz
3.3 大型LB膜分析儀（KN2003）
槽體材質：固體燒結，無孔PTFE材質，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更換為多種其他功能性槽體，含雙側導流槽，內置水浴系統接口
框體特性：33 mm槽體高度調節，天平可XYZ三維定位調節，含安全限位開關，含攪拌、pH測量、樣品注射輔助系統等接口
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